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盡管開發(fā)成本很高,但較小的節(jié)點(diǎn)可為每個(gè)晶圓帶來更大的收入。
集成電路的成功與擴(kuò)散很大程度上取決于IC制造商能否繼續(xù)提供更多的性能和功能。隨著主流CMOS工藝達(dá)到其理論,實(shí)際和經(jīng)濟(jì)極限,降低IC(按功能或性能)的成本不可避免地與不斷增長的技術(shù)和晶圓廠制造規(guī)程聯(lián)系在一起。
IC Insights的2021年版《 McClean報(bào)告》(于2021年1月發(fā)布)中提供的數(shù)據(jù)指出,許多無晶圓廠IC公司都宣稱擁有自己領(lǐng)先的設(shè)備,包括使用7nm和5nm工藝節(jié)點(diǎn)制造的高性能微處理器、低功耗應(yīng)用處理器和其他先進(jìn)的邏輯器件。圖1顯示了部分芯片制造廠商的最新迭代路線圖。
圖1
特別是在晶圓代工領(lǐng)域,采用領(lǐng)先工藝的制造技術(shù)具有明顯的優(yōu)勢。2020年,臺(tái)積電是唯一同時(shí)使用7nm和5nm工藝節(jié)點(diǎn)的純晶圓代工廠。不巧合的是,由于許多頂級(jí)無晶圓廠IC供應(yīng)商(2020年收入超過10億美元的16家無晶圓廠IC公司)都準(zhǔn)備使用這些最先進(jìn)的工藝制造最新設(shè)計(jì),因此其每片晶圓的總收入顯著增長。四個(gè)純晶圓代工廠中的三個(gè)在2020年的每片晶圓收入更高(GlobalFoundries的每片晶圓收入去年下滑1%)。臺(tái)積電每片晶圓的收入為1,634美元,比GlobalFoundries高出66%,是聯(lián)電和中芯國際的兩倍多。臺(tái)積電預(yù)計(jì)在2021年的資本支出為275億美元,將擴(kuò)大其在這些節(jié)點(diǎn)的可用產(chǎn)能,并于今年開始試產(chǎn)3nm IC,計(jì)劃于2022年開始批量生產(chǎn)3nm IC。
圖2
除了代工和邏輯IC制造外,三星、美光、SK Hynix、Kioxia和WD等存儲(chǔ)器供應(yīng)商都在使用先進(jìn)的工藝來制造其DRAM和閃存組件。無論是什么設(shè)備類型,集成電路產(chǎn)業(yè)都已經(jīng)發(fā)展到只有極少數(shù)的公司可以開發(fā)前沿工藝技術(shù)并制造前沿IC的地步。不斷提升的設(shè)計(jì)、制造挑戰(zhàn)以及成本已經(jīng)將集成電路領(lǐng)域變成零和博弈,隨著頂級(jí)生產(chǎn)商所持份額的增加,各個(gè)IC產(chǎn)品領(lǐng)域的市場份額爭奪已成為“重中之重”,留給其他競爭者的空間越來越小。
源文地址:https://www.icinsights.com/news/bulletins/Revenue-Per-Wafer-Climbs-As-Demand-Surges-For-5nm7nm-IC-Processes/
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